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半导体光刻的光刻胶涂层系统

半导体光刻胶喷涂

与传统的旋涂相比,采用超声波喷涂的光刻胶涂层在沉积更均匀的涂层方面具有优势,特别是沿着高纵横比沟槽和 V 形槽结构的侧壁顶部,离心旋转无法沉积均匀的涂层沿侧壁涂膜,而不会在空腔底部沉积过多的光刻胶。

超声波喷涂是光刻晶圆加工中光刻胶涂层的一种简单、经济且可重复的工艺。FUNSONIC的超声波雾化镀膜系统使用先进的分层技术可以精细控制流速、镀膜速度和沉积量。低速喷雾成型将雾化喷雾定义为精确、可控的图案,避免过度喷涂,同时产生非常薄、均匀的层。使用超声波技术的直接喷涂被证明是将光刻胶沉积到3D微结构上的可靠且有效的方法,从而减少了因金属过度暴露于蚀刻剂而导致的设备故障。

超声波喷头在光刻胶涂层工艺中的优势:

  • 各种表面轮廓的均匀薄膜覆盖。
  • 能够以出色的均匀性涂覆高纵横比的沟槽。
  • 无堵塞雾化喷雾。
  • 能够沉积高度均匀的单微米薄层。
  • 可重复的成熟喷涂工艺。
杭州泛索能超声

杭州泛索能超声

杭州泛索能超声科技有限公司一直致力于大功率超声波核心部件及成套应用设备领域,集研发、生产、销售、售后为一体。我们一贯以丰富的行业经验、用非常适合客户的解决方案帮助客户解决任何难题,向所有用户提供完善的解决方案以及高品质的产品。主要产品及服务包括超声雾化喷涂设备,超声波液体处理设备,超声波涂铟设备,超声波金属熔液处理,超声波焊接设备,超声波切割设备以及超声波核心配件。

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